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自动除胶设备
全自动去胶设备广泛应用于集成电路领域、先进封装领域里的光刻胶去除工艺。与传统的去胶设备相比自动化程度更高,采用模块化 设计,可以依据客户客制化工艺生产需求为导向,从设计开发、机台组装、测试、设备安装到售后服务...
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等离子清洗,去胶设备
等离子体是正离子和电子的密度大致相等的电离气体。由离子、电子、自由激进分子、光子以及中性粒子组成,是物质的第四态。在等离子体中除了气体分子、离子和电子外,还有存在受到能量激励状态电中性的原子或原子团(又称自由基),以及等离子体发射出的光线,其中波的长短、能量的高低,在等离子体与物体表面相互作用时有着重要的作用...
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