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晶圆单片式清洗机
单片式清洗机是由几个清洗腔体组成，再通过机械手将每一片晶圆送至各个腔体中进行单独的喷淋式清洗，清洗效果较好，避免了交叉污染和前批次污染后批次，具有极高的工艺环境控制能力与微粒去除能力，有效解决晶圆之间交叉污染的问题。 可定制2/4/6/8/12/16腔室，单腔室处理速度可达到35片/小时，根据客户需求定制适用于8寸/12寸硅片清洗，内... 米兰平台 +
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助焊剂清洗设备
全自动槽式助焊剂清洗设备
广泛用于半导体先进封装领域的助焊剂清洗工艺
设备具有二流体,超（兆）声波等清洗工艺以及热风,IPA干燥（选项）干燥功能，可对应多种不同的工艺需求
工艺简介：对wafer植球后经过reflow后进行清洗。
工艺流程：印刷锡膏-reflow-flux清洗:超声波清洗-QDR-烘干
主要工艺参数：有机清... 米兰平台 +
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全自动RCA清洗设备
设备主体、电气控制系统、化学工艺槽、纯水清洗槽，机械手控制系统，循环过滤系统，管路及排风系统等；并提供与厂务供电、供气、供水、排废水、排气系统配套的接口等。 米兰平台 +
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全自动槽式清洗机
全自动槽式清洗机广泛应用于集成电路领域、先进封装领域里的清洗、刻蚀后、光刻胶去除等工艺。与传统的清洗设备相比自动化程度更高，可用于4寸、6寸、8寸、12寸硅片清洗。还可以选配兆声波系统、管路防静电等配置。设备可以提供在异常情况下对硅片的独特保护（SPS系统）。可提供多个槽体或单片进行化学药液或纯水，结合喷淋、溢流、... 米兰平台 +
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